TFT LCDの製造工程

単純な方法では、私達は底からの3部に次のとおりであるそれらを越えるためにTFT LCDを、分けてもいい:軽いシステム、循環方式およびライトおよび色の制御システム。製造工程では、私達は内なる光および色の制御システムから始まり、次に全モジュールに広がる。

それは3つの主要な部にTFT LCDの製造工程を分けることを慣らした:配列、細胞およびモジュール。前の2つのステップはライトの生産についてあり、TFT、CF （色フィルター）およびLC （液晶）を含んでいる色の制御システムは細胞を示した。そして最後のステップは細胞、回路および軽いシステムのアセンブリである。

1. 配列

このステップの生産性を、高めるためには私達は次のステップのより小さい部分に切られる大きいガラスの一連のプロシージャをする。

最初に、私をあなたに重大な材料、ITOを、もたらすことを許可しなさい。ITOのインジウムの錫の酸化物の省略は、電気伝導率および光学透明物の特徴があったり、また薄膜として容易に沈殿することができる。従ってガラスの回路を作成するためにそれは広く利用されている。

今度は私達をTFTおよびCF.の生産に回ることを許可しなさい。PR （光硬化性樹脂）方法と呼ばれる共通方法はここにある。PR方法の全プロセスはTFTの生産で示される。

TFT:

• ◇ガラス基質の設計されていた順序で沈殿物の半導体材料そしてITO。
• ◇光硬化性樹脂のコーティング。
• ◇部分的な露出は、そして露出された光硬化性樹脂をきれいにする。
• ◇回路の一部分になるために光硬化性樹脂のカバーなしで半導体およびITOを切取りなさい。
• ◇残る光硬化性樹脂にきれいにしなさい。
• ◇全回路を造るためには、私達は頻繁に5回のためのステップを繰り返す必要がある。

CF:

• ◇PR方法を使用して境界としてガラス基質の黒いマトリックスを作成しなさい。
• ◇別の黒いマトリックス内のコートの赤く、緑および青材料PR方法を使用して。
• ◇RGB （赤く、緑および青）の層のovercoverに塗りなさい。
• ◇沈殿物ITO回路。

2. 細胞

このステップで私達はTFTおよびCFガラスを組み立て、LCを同時に記入しようと思っている。

• ◇コートのpolyimideのフィルム、を使用してTFTおよびCF両方ガラスのITOの側面のLCの分子の最初の方向を、強いるため。
• ◇両方のLCのための境界を造るのに接着剤をガラス使用しなさい。そしてCFガラスで、伝導性の接着剤の1つのより多くの層を加えなさい。これは制御回路にLCの分子リンクを可能にする。
• ◇境界内の盛り土LC。
• ◇棒は標準と一直線に小さい部分に一緒の2つのガラス、そして大きいガラスを切った。
• ◇の付加の偏光子のフィルム切開されたガラスの両側。

3. モジュール

最初リンク循環方式への細胞。

• ◇運転者ICに細胞をつなぎなさい。
• ◇リンク運転者ICへのFPC （適用範囲が広いプリント回路）。
• ◇外PCBA （プリント基板 アセンブリ）へのリンクFPC。

次に軽いシステムを準備しなさい

• ◇光源、通常LEDかCCFLを、反射器のフィルムがある軽いガイド版で付けなさい
• ◇光源に拡散器のフィルムおよびプリズム フィルムを次々と置きなさい。反射器のフィルムとともに光源からのポイント ライトを区域ライトに回し、輝度を高めるのに、これら二つのフィルムが使用されている。
• ◇光量制御回路、常にPCBAの別のタイプを光源をつなぎなさい。

最後の段階では、私達はスクリーン・フレームとともにすべてこれらを組み立てる必要があり、老化するテストをする。